倒置金屬分析顯微鏡IE200M

操作簡便，附件齊全，廣泛應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域。

高精度粗微動調焦機構

采用底手位粗微調同軸調焦機構，左右側均可調節，微調精度高，手動調節簡單方便，用戶能夠輕松得到清晰舒適的圖像。粗調行程為38mm，微調精度0.002。

大尺寸機械移動平臺

采用180×155mm的大尺寸平臺，右手位設置，符合常規人群操作習慣。用戶操作過程中，便于調焦機構與平臺移動的操作切換，為用戶提供更加高效的工作環境。

落射柯拉照明系統

落射式柯拉照明系統，帶可變孔徑光欄和中心可調視場光欄，自適應寬電壓100V-240V，6V30W鹵素燈，光強連續可調。

技術規格